RF magnetron kopartma tekniği kullanılarak hazırlanan Nb2O5ince filmlerin optik özelliklerinin incelenmesi

---

Tezin Türü: Yüksek Lisans

Tezin Yürütüldüğü Kurum: Hacettepe Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, Nanoteknoloji ve Nanotıp A.B.D., Türkiye

Tezin Onay Tarihi: 2012

Tezin Dili: Türkçe

Öğrenci: MELTEM YEŞİLTEPE

Danışman: Özlem Duyar Coşkun

Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu

Özet:

Bu yüksek lisans tez çalışmasında, Nb2O5 ince filmlerin magnetron kopartma tekniği kullanılarak hazırlanması ve optik karakterizasyonu amaçlanmıştır. İnce film özellikleri, alttaş sıcaklığı, reaktif gaz/kopartma gazı oranı, toplam basınç gibi büyütme parametrelerine bağlıdır. Büyütme parametrelerini kontrol ederek filmlerin optik özelliklerini değiştirmek mümkündür. Bu çalışmada Nb2O5 filmler oda sıcaklığında ve 300 ?C alttaş sıcaklığında büyütüldü. Alttaş sıcaklığının kaplama hızına olan etkisi gözlendi. Ayrıca oda sıcaklığında farklı O2 koşullarında silika alttaşlar üzerine büyütülen ince filmler 300 ?C' den 800 ?C ye kadar, tavlama süreleri arttırılarak tavlama işlemine maruz bırakıldı. Film yapısında ve optik özelliklerinde değişikliğe yol açan tavlama sıcaklıkları ve süreleri belirlendi. Film yoğunluğundaki artışa ve azalışa bağlı olarak kırma indisinin ve kalınlığın değişim gösterdiği gözlendi. 0.8 mTorr O2 kısmi basıncı ve 5.3 mTorr toplam basınç koşullarında hazırlanan film ile 1.1 mTorr O2 kısmi basıncı ve 5.6 mTorr toplam basınç koşullarında hazırlanan filmin dalga boyuna bağlı geçirgenlik değerlerinde belirgin bir farklılığın varlığı gözlendi. 0.8 mTorr O2 kısmi basıncı ve 5.3 mTorr toplam basınç koşullarında hazırlanan filmin geçirgenliği filmi 500 ?C' de 1 saat tavlayarak arttırılmıştır. Atmosfer ortamında tavlama sonucunda geçirgenliği arttırılan filmlerin optik özellikleri, O2 kısmi basıncı azaltılmayan ortamda hazırlanarak tavlanan filmlerin optik özellikleriyle karşılaştırıldı.