Bazı tek ve çok katmanlı ince film yapıların X-ışını saçılma ve X-ışını kırınımı yöntemleri ile incelenmesi
Tezin Türü: Yüksek Lisans
Tezin Yürütüldüğü Kurum: Hacettepe Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, Fizik Mühendisliği A.B.D., Türkiye
Tezin Onay Tarihi: 2012
Tezin Dili: Türkçe
Öğrenci: URAL KAZAN
Asıl Danışman (Eş Danışmanlı Tezler İçin): SEMRA İDE
Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu
Özet:Katıhal fiziği araştırmalarında, ince film yapılar, elektrik, optik, manyetik, v.b. farklı fiziksel özelliklerinden dolayı teknolojik uygulamalarda dikkat çekici malzemelerdir. Veri depolama elemanlarından, yakıt hücreleri ve güneş enerji panellerinin yapımına kadar pek çok alanda kullanılan bu malzemeler, fiziksel ve kimyasal yöntemler ile hazırlanırlar. Hedeflenen özelliklere göre, tek ve çok katmanlı hazırlanan bu ince film yapıların, ayrıntılı karakterizasyonları yapılmadan teknolojik kazanımları mümkün olamamaktadır. Bu nedenle, XRPD (X-ışını toz kırınımı), qCM (Kuartz kristal görüntüleme), LEED (Düşük enerjili elektron kırınımı), RHEED (Yansımalı yüksek enerjili elektron kırınımı), SAXS (Küçük açı X-ışını saçılması), GISAXS (Yüzeye yakın X-ışını saçılması), AFM ( Atomik kuvvet mikroskobu), STM ( Taramalı tünelleme mikroskobu), SEM (Taramalı elektron mikroskobu), TEM (tünellemeli elektron mikroskobu) v.b. pek çok deneysel yöntem kullanılarak, fimlerin tabaka kalınlıkları, yüzey morfolojileri, içerdikleri farklı oluşumlar, oluşum dağılımları, tabakalar arası yüzey alan şekillenimleri, farklı sıcaklıklarda faz geçişlerinin takibi yapılarak, uzun erimli mesafelerde yapıların kararlı ve homojen olup olmadıklarının incelenmesi gerekmektedir.Bu tez kapsamında, ince film yapıların analizinde ülkemizde ilk kez, küçük ve geniş açı X-ışını saçılması (SAXS ve WAXS) yöntemleri birlikte kullanılmıştır. Bu analizlerde Gazi Üniversitesi, Anadolu Üniversitesi ve Hacettepe Üniversitesi'nde ince film konusunda uzman bilim insanları tarafından sentezlenen tek ve çok katmanlı ince filmler analiz edilmiştir. Böylece hazırlanan örneklerin ileri sevide yapılacak analizler için ve teknolojik kazanımlar için uygun olup olmadıkları belirlenmiştir. Hacettepe Üniversitesinde hazırlanan CK7 kodlu ince film yapıda her biri 2' şer katman içeren 24 düzgün tabaka belirlenmiştir. Bu tabaka kalınlıkları 33,3-34,6 Å aralığında çok az değişen değerlere sahiptir. Gazi Üniversitesinde hazırlanan, 8.Si-600 kodlu, silisyum üzerine Mn katkılanarak ZnO nano çubuk kaplamanın yapıldığı ve 600 °C de tavlandığı örnek çok ilgi çekici bulunmuştur. Bu örneğin, hem SAXS hem de WAXS analizlerinde zaman çözünürlü deneyler ile incelenebilecek, nano boyutta ve moleküler boyutta istenen kristalin özelliklere sahip olduğu belirlenmiştir.Anahtar Kelimeler: SAXS, WAXS ,İnce Filmler, Nano Oluşumlar