Nanokristal silisyum altoksit nc Siox H ince filmlerin kristalizasyon oranının belirlenmesi
Atıf İçin Kopyala
RÜZGAR K., BACIOĞLU A.
21. yoğun madde fiziği toplantısı, Gazi Üniversitesi, Türkiye, 25 Aralık 2015
-
Yayın Türü:
Bildiri / Tam Metin Bildiri
-
Basıldığı Ülke:
Türkiye
-
Hacettepe Üniversitesi Adresli:
Evet