Nanokristal silisyum altoksit nc Siox H ince filmlerin kristalizasyon oranının belirlenmesi
21. yoğun madde fiziği toplantısı, Gazi Üniversitesi, Türkiye, 25 Aralık 2015, (Tam Metin Bildiri)
- Yayın Türü: Bildiri / Tam Metin Bildiri
- Basıldığı Ülke: Türkiye
- Hacettepe Üniversitesi Adresli: Evet